ホフマンセラミック社は、1950年代より炭化ケイ素からSiCチルプレートを製造してきました。当社のSiCチルプレートは、鋳造品の高応力領域で一貫した特性が必要で、変質を避けるために熱を適度に下げる必要がある場合に最適です。 我々は、鋳物組成と製造技術とを組み合わせることによってこれを実現しています。

ホフマンセラミック社のSiCチルプレートは…

• 望ましくない部位の高硬度化を防止
• 均質な微細組織を促進
• 結露の防止
  → 結果として奇麗な鋳肌面が得られる
• 亀裂や膨れの防止
• 処理コストの低減
• あらゆるサイズや形状が利用可能